[发明专利]聚合物石墨烯复合色谱填料的制备和化学修饰方法在审
| 申请号： | 201610953032.2 | 申请日： | 2016-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN106512969A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 张恺;朱岩 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B01J20/30 | 分类号： | B01J20/30;B01J20/285;B01J20/26;B01D15/08;B01J13/02 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司33212 | 代理人： | 唐银益,李亦慈 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚合物石墨烯复合色谱填料的制备和化学修饰方法，采用聚苯乙烯‑二乙烯基苯(PS‑DVB)或聚乙基乙烯基苯‑二乙烯基苯(PEVB‑DVB)和氧化石墨烯为基质材料，通过水合肼原位还原或分步还原的方式将氧化石墨烯还原并附聚到基质表面，形成一层褶皱状的石墨烯壳层，得到聚合物石墨烯复合色谱填料。该方法制备的填料定性好，耐受很宽的酸碱范围并兼容有机溶剂；可根据表面复合石墨烯的不同反应特性，可分别修饰多种离子交换基团，同时制备阴、阳离子交换色谱填料，并较好地实现了常规阴、阳离子的分离，特别适用于抑制电导型离子色谱的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 石墨 复合 色谱 填料 制备 化学 修饰 方法 | ||
【主权项】：
一种聚合物石墨烯复合色谱填料的制备方法，其特征是，采用聚苯乙烯‑二乙烯基苯(PS‑DVB)和氧化石墨烯为基质材料或聚乙基乙烯基苯‑二乙烯基苯(PEVB‑DVB)和氧化石墨烯为基质材料，通过水合肼原位还原或分步还原的方式将氧化石墨烯还原并附聚到基质表面，形成一层褶皱状的石墨烯壳层，得到聚合物石墨烯复合色谱填料。
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