[发明专利]成像方法和成像系统有效
申请号: | 201610925903.X | 申请日: | 2016-10-24 |
公开(公告)号: | CN107970037B | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 梁国栋;吴国城;李楠;赵健 | 申请(专利权)人: | 上海东软医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;A61B6/00 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 200241 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请提供一种成像方法。该成像方法包括:确定探测器模块的每一个晶体单元的若干深度位置对应的参照能量权重因子;接收所述探测器模块产生的单事件信号;根据所述单事件信号确定产生最大单事件信号的被击中的晶体单元和所述被击中的晶体单元所对应的实际能量权重因子;根据所述深度位置对应的参照能量权重因子确定所述实际能量权重因子所对应的被击中的晶体单元的实际深度位置来获得单事件在所述探测器模块内的作用位置;根据符合事件的两个单事件在所述探测器模块内的作用位置确定符合线;及根据多条符合线重建图像。本申请还公开一种成像系统。 | ||
搜索关键词: | 成像 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种成像方法,其特征在于:其包括:确定探测器模块的每一个晶体单元的若干深度位置对应的参照能量权重因子;接收所述探测器模块产生的单事件信号;根据所述单事件信号确定产生最大单事件信号的被击中的晶体单元和所述被击中的晶体单元所对应的实际能量权重因子;根据所述深度位置对应的参照能量权重因子确定所述实际能量权重因子所对应的被击中的晶体单元的实际深度位置来获得单事件在所述探测器模块内的作用位置;根据符合事件的两个单事件在所述探测器模块内的作用位置确定符合线;及根据多条符合线重建图像。
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