[发明专利]一种深空探测用超疏自清洁太阳电池玻璃盖片的制备方法在审
| 申请号： | 201610911473.6 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN106477900A | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 黄三玻;贾巍;齐振一;倪家伟;刘智;池卫英;陆剑峰;雷虎;刘勇 | 申请（专利权）人： | 上海空间电源研究所 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C21/00;C03C17/42;H02S40/10 |
| 代理公司： | 上海航天局专利中心31107 | 代理人： | 金家山 |
| 地址： | 200245 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对玻璃盖片表面进行超疏改性的方法，所述方法是首先对经表面清洁处理后的玻璃盖片表面直接进行激光刻蚀后再进行羟基化处理，然后在玻璃盖片表面形成纳米涂层，最后采用浸泡法或者化学气相沉积法在处理后的玻璃盖片表面进行低表面能材料修饰。本发明具有工艺简单、无需特殊设备、易于推广实施、重复性好等优点；尤其是，经本发明方法改性后的玻璃盖片表面在经受多次擦拭、高温或长时间紫外辐照后仍然可以保持超疏自清洁的特性，可适用于尘埃环境恶劣的深空探测航天器中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 探测 用超疏 清洁 太阳电池 玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种深空探测用超疏自清洁玻璃盖片的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：步骤1、在玻璃盖片表面刻蚀出微米或亚微米结构；步骤2、在具有微米或亚微米结构的玻璃盖片表面进行羟基化处理并形成纳米涂层；步骤3、在所述纳米涂层上制备一层低表面能材料，得到所述超疏自清洁材料；所述刻蚀区包括间隔均匀分布的凹槽，所述凹槽宽度为0‑40µm，深度为0‑15µm，间距为5‑40µm。
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