[发明专利]大棚西红柿绿色种植方法在审

专利信息
申请号: 201610896080.2 申请日: 2016-10-13
公开(公告)号: CN106538181A 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 李士光 申请(专利权)人: 李士光
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01C1/00;A01C1/08;C05G3/00
代理公司: 安徽信拓律师事务所34117 代理人: 吴奇
地址: 236200 安徽省阜阳市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种大棚西红柿绿色种植方法,包括以下步骤平整土地、开挖种植坑、施肥、种子预处理、播种、灌溉、搭架引蔓、开花期施肥。通过本发明的方法种植西红柿,降低了肥料的损失,减少了肥料的用量,提高了肥效,通过合理的密植,使得西红柿产量有了明显的提高;种子发芽率高,发芽后的幼苗生长速度快,幼苗健壮,幼苗期缩短,存活率高,整个生长期的病虫害发生率低;本发明种植方法简单,所用肥料能够防止土壤板结,保证了西红柿开花结实期所需的各种营养成分,得到的西红柿富含多种维生素,尤其适合于大棚种植。
搜索关键词: 大棚 西红柿 绿色 种植 方法
【主权项】:
一种大棚西红柿绿色种植方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)平整土地将大棚土地经过初步整平后灌水,并进行水夯,水夯时水源高度低于大棚土地高度30~50厘米,水夯1~2天,水夯后再次将土地进行整平并灌水,灌水时水源高度低于大棚土地高度50~70厘米,保持10~24H,最后将大棚中间土壤高出南北两头8厘米左右;(2)开挖种植坑在经过平整的土地上开挖种植沟,种植沟底宽10~20厘米,深20~30厘米,相邻种植沟之间形成种植垄,种植垄宽度50~60厘米,在种植垄上开挖种植坑,相邻种植坑间距15~20厘米,前后种植坑行距20~30厘米;(3)施肥在种植坑中线位置开槽,所述槽的深度为5厘米,宽度为8厘米,将西红柿专用肥撒入所述槽中,再用土壤对肥料进行覆盖形成覆盖层,覆盖结束后洒水至覆盖层和肥料完全湿润;(4)种子预处理用1%的小苏打水溶液浸泡种子12~24小时,反复搓洗几遍,再置于药剂中浸种1小时进行消毒,从药剂中取出后浸泡于含有草木灰、水温为30℃~40℃的温水中并搅拌,搅拌均匀待种子膨胀后把水温迅速降到20~22℃,最后将种子取出备用;(5)播种、灌溉选择傍晚时分在种植坑上进行播种,播种前再次洒水将覆盖层完全湿润,然后将西红柿种子播种在覆盖层上,播种结束进行浇水灌溉,采用喷淋式灌溉方式,至种植垄表面土壤层湿润至10~20厘米即可,灌溉结束将大棚密闭,白天通风3~5小时,每天下午1~2点再次进行浇水灌溉,重复3~5天后可适当延长每次灌溉时间间隔,直至长出幼苗,同时注意对棚内杂草管理;(6)搭架引蔓当西红柿幼苗长至30~50厘米时在相邻西红柿植株间立即搭架,可以搭为人字架或篱架,搭架后用稻草或塑料线进行绑蔓上架,引蔓生长;(7)开花期施肥待西红柿植株长至开花期时,向植株根部喷洒液体肥,补充这一时期及后面结实期所需营养成分。
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