[发明专利]一种GOA阵列基板的制作方法及GOA阵列基板在审

专利信息
申请号: 201610880688.6 申请日: 2016-10-09
公开(公告)号: CN106252364A 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 吕晓文 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种GOA阵列基板的制作方法及GOA阵列基板,该GOA阵列基板包括:衬底基板;第一半导体有源层;第一绝缘层;第一栅极与第二栅极;第二绝缘层;第二半导体有源层;第一源极、第一漏极、第二源极与第二漏极;第三绝缘层;驱动电极与像素电极。本发明有效地降低了GOA液晶显示面板的边框宽度,实现窄边框的设计。
搜索关键词: 一种 goa 阵列 制作方法
【主权项】:
一种GOA阵列基板,包括周边的GOA区域与中部的显示区域,其特征在于,其包括:衬底基板;第一半导体有源层,形成于所述衬底基板的所述GOA区域;第一绝缘层,形成于所述第一半导体有源层上,并覆盖整个所述衬底基板;第一栅极与第二栅极,形成于所述第一绝缘层上,所述第一栅极位于所述GOA区域的与所述第一半导体有源层对应处,所述第二栅极位于所述显示区域;第二绝缘层,形成于所述第一栅极与所述第二栅极上,并覆盖整个所述第一绝缘层;第二半导体有源层,形成于所述第二绝缘层上,其位于所述显示区域;第一源极、第一漏极、第二源极与第二漏极,形成于所述第二绝缘层上,其中所述第一源极与所述第一漏极分别穿过所述第一绝缘的过孔与所述第二绝缘层与所述第一半导体有源层两端相接触,所述第二源极与所述第二漏极分别与所述第二半导体有源层两端相接触;第三绝缘层,形成于所述第二半导体有源层、所述第一源极、所述第一漏极、所述第二源极与所述第二漏极上,并覆盖整个所述第二绝缘层;驱动电极与像素电极,形成于所述第三绝缘层上,分别位于所述GOA区域与所述显示电路区域,并分别与所述第一漏极及所述第二漏极相接触;其中,所述第一半导体有源层的电子迁移率高于所述第二半导体有源层的电子迁移率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610880688.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top