[发明专利]一种(101)晶面择优生长的SnS2纳米片负极材料的制备方法有效
申请号: | 201610874891.2 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106450296B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 赵海雷;张子佳;杜志鸿;赵丽娜;滕勇强;李兆麟;杜雪飞 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | H01M4/58 | 分类号: | H01M4/58;H01M10/0525;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种(101)晶面择优生长的SnS2纳米片负极材料的制备方法。本研究以无机锡盐为锡源,以有机硫化物为硫源,以聚乙二醇为添加剂,通过简单的溶剂热法一步制备出以(101)晶面择优生长的SnS2纳米片。这些以(101)晶面为裸露表面的纳米片,在充放电过程中可以提供充足的电化学活性位点,缩短锂离子的扩散路径,加快电化学反应动力学,从而使得电极的倍率性能优异。本发明的优点在于(101)晶面择优生长的SnS2纳米片的制备工艺简单易行,并可以应用到其他层状物质的择优生长。此方法制备的(101)晶面择优生长的SnS2纳米片具有优异的倍率性能,是一种潜在的高性能锂离子电池负极材料,有望广泛应用于各种便携式电子设备、电动汽车以及航空航天等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 101 择优 生长 sns2 纳米 负极 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种(101)晶面择优生长的SnS2纳米片负极材料的制备方法,其特征是采用一步溶剂热法并添加表面活性剂聚乙二醇,制备出以(101)晶面为裸露表面的SnS2纳米片;具体工艺步骤为:(1)将一定摩尔量 的锡盐溶解于一定量溶剂中,搅拌均匀形成澄清溶液,锡盐的浓度控制在1×10‑4~3×10‑2mol· L‑1;选用有机硫源加入澄清溶液中,不断搅拌使有机硫源完全溶解;再加入表面活性剂聚乙二醇搅拌均匀,有机硫源浓度控制在4×10‑4~4×10‑1mol· L‑1,表面活性剂聚乙二醇浓度控制在2×10‑3~5×10‑1mol· L‑1;(2)将步骤(1)中得到的溶液倒入带有聚四氟乙烯内衬的水热釜中,于恒温箱内一定温度下反应一定时间;步骤(1)所述的有机硫源是乙硫醇、丙烯硫醇、硫脲、L‑半胱氨酸;步骤(1)中所述的聚乙二醇是聚乙二醇200、聚乙二醇2000、聚乙二醇6000、聚乙二醇12000中的一种或几种。
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