[发明专利]一种采用低维量子点倍增层的半导体雪崩光电探测器有效
申请号: | 201610847176.X | 申请日: | 2016-09-23 |
公开(公告)号: | CN106299015B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 马英杰;张永刚;顾溢;陈星佑 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所31233 | 代理人: | 黄志达,魏峯 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种采用低维量子点倍增层的半导体雪崩光电探测器,在半导体雪崩光电探测器的倍增层中包含有若干层量子点层,所述量子点层具有比倍增层更窄的禁带宽度,且与倍增层材料形成I型能带结构。本发明增益系数显著提升、过剩噪声得到抑制,可广泛应用于增强Si‑Ge、GaAs‑InAs、InP‑InGaAs、InAlAs‑InGaAs、GaAs‑AlSb等不同波段的雪崩探测器性能,提升高速光通讯、单光子计数、激光雷达、量子信息等雪崩探测器系统的应用水平。 | ||
搜索关键词: | 一种 采用 量子 倍增 半导体 雪崩 光电 探测器 | ||
【主权项】:
一种采用低维量子点倍增层的半导体雪崩光电探测器,其特征在于:在半导体雪崩光电探测器的倍增层中包含有若干层量子点层,所述量子点层具有比倍增层更窄的禁带宽度,且与倍增层材料形成I型能带结构;其中,采用电子倍增架构时,量子点与倍增层材料的导带带阶大于价带带阶;采用空穴倍增架构时,量子点与倍增层材料的价带带阶大于导带带阶;量子点层为多层时,相邻量子点层之间的间隔层厚度大于量子点之间的受限激子波函数相互作用距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的