[发明专利]光学成像设备、制造光学成像设备的方法和对场景成像的方法在审

专利信息
申请号: 201610829210.0 申请日: 2010-02-03
公开(公告)号: CN107039469A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 摩西·克里曼;威廉·哈德森·韦尔奇;贾尔斯·汉普斯通;奥舍·阿夫斯安;费利克斯·哈扎诺维奇;叶卡捷琳娜·阿克塞尔罗德 申请(专利权)人: FLIR系统贸易比利时有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 高伟,陆弋
地址: 比利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了光学成像设备、制造光学成像设备的方法和对场景成像的方法。光学成像设备包括第一光学组件和传感器组件,其中传感器组件的第二隔离物包括孔,使得第二隔离物不干扰经过至少一个光学表面的电磁辐射到达至少一个感测元件,并且第一光学组件的第一隔离物联接到传感器组件的第二隔离物。制造多个单独的光学成像设备的方法包括提供包括多个光学组件的晶片;提供传感器晶片;将光学组件的第一隔离物直接联接到传感器组件的第二隔离物,以提供多个结合的光学成像设备;以及对结合的光学成像设备进行单分。对场景成像的方法包括提供上述光学成像设备;以及通过感测元件接收来自场景的电磁辐射。
搜索关键词: 光学 成像 设备 制造 方法 场景
【主权项】:
一种光学成像设备,包括:第一光学组件,所述第一光学组件包括辐射透射衬底和第一隔离物,所述辐射透射衬底包括至少一个光学表面,所述第一隔离物由可用于吸收通过所述第一光学组件的一种或多种波长的电磁辐射的材料构成,其中,所述第一光学组件的所述第一隔离物包括孔并且是光学组件隔离物晶片的预先单分部分,并且其中所述至少一个光学表面被联接到所述第一光学组件的所述第一隔离物的顶表面;以及传感器组件,所述传感器组件包括第二隔离物和至少一个感测元件,所述第二隔离物包括彼此联接的两种或更多种材料的复合构造,其中所述传感器组件的所述第二隔离物包括孔,使得所述第二隔离物不干扰经过所述至少一个光学表面的所述电磁辐射到达所述至少一个感测元件,并且其中,所述第一光学组件的所述第一隔离物联接到所述传感器组件的所述第二隔离物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FLIR系统贸易比利时有限公司,未经FLIR系统贸易比利时有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610829210.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top