[发明专利]计算装置和计算方法有效

专利信息
申请号: 201610827459.8 申请日: 2016-09-14
公开(公告)号: CN107063950B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 高须良三 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G01N15/06 分类号: G01N15/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 唐京桥;陈炜
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了计算装置和计算方法。计算装置包括:采集单元,其获得在第一测量站中测得的气体中的颗粒的质量浓度、在第二测量站中测得的气体中的颗粒的数目浓度以及在第二测量站中测得的气体的湿度;以及计算单元,其基于第一测量站中的质量浓度以及第二测量站中的数目浓度和湿度来计算函数,该函数限定了质量浓度和数目浓度与湿度的关系,并且该函数用于根据在第三测量站中测得的气体中的颗粒的数目浓度和气体的湿度来计算第三测量站中的气体中的颗粒的质量浓度,第三测量站安装在与安装第一测量站和第二测量站的位置不同的位置中。
搜索关键词: 计算 装置 计算方法
【主权项】:
1.一种计算装置,包括:采集单元,其被配置成获得在第一测量站中测得的包含在气体中的颗粒的质量浓度、在第二测量站中测得的包含在所述气体中的颗粒的数目浓度以及在所述第二测量站中测得的所述气体的湿度;以及计算单元,其被配置成:基于由所述采集单元获得的所述第一测量站中的质量浓度以及所述第二测量站中的数目浓度和湿度来计算函数,所述函数限定了质量浓度和数目浓度与湿度的关系,并且所述函数用于根据在第三测量站中测得的包含在所述气体中的颗粒的数目浓度和所述气体的湿度来计算包含在所述第三测量站中的气体中的颗粒的质量浓度,所述第三测量站安装在与安装所述第一测量站和所述第二测量站的位置不同的位置中,其中,所述第一测量站和所述第二测量站位于相同的位置,或者所述第一测量站和所述第二测量站位于不同的位置,并且所述第一测量站与所述第二测量站之间的距离小于所述第一测量站与所述第三测量站之间的距离,其中,所述采集单元获得以规则间隔或不固定间隔测得的在所述第一测量站中的多个质量浓度以及以规则间隔或不固定间隔测得的在所述第二测量站中的多个数目浓度和多个湿度,以及所述计算单元以规则间隔或不固定间隔计算多个所述函数,其中,使用多个所述函数之中的最新的函数来计算包含在所述第三测量站中的气体中的颗粒的质量浓度,以及所述第三测量站不包括用于测量颗粒的质量浓度的质量浓度测量仪器。
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