[发明专利]沉浸式光刻装置、清洗方法、器件制造方法及液体沉浸式光刻装置

摘要

一种沉浸式光刻装置、清洗方法、器件制造方法及液体沉浸式光刻装置，涉及的沉浸式光刻装置具有用于保持刻线板的刻线板台，用于保持工件的工件台，和位于工件对面、由照射源和光学元件组成的光学系统，用于通过照射源的辐射投影刻线板的图像。在光学元件和工件之间限定一个间隙，并且一个流体供应器件用于向该间隙内提供沉浸流体，从而在沉浸式光刻处理中使供应的沉浸流体与光学元件和工件均接触。具有一个清洗器件，其用于在清洗处理期间从光学元件除去吸附的液体。该清洗器件可以使用与被吸附液体具有亲和力的清洗液体、加热、真空条件、超声波振荡或者空化泡来除去吸附的液体。清洗液体可以通过相同的具有切换器件例如阀的流体施加器件加以提供。

主权项

一种用于沉浸式光刻装置的清洗方法，其中在沉浸式光刻处理期间，用于光刻的工件位于台上，具有光学元件的投影光学系统在所述工件的上方并与之相对，在所述光学元件与所述工件之间提供间隙，沉浸液体从供应开口供应至在所述光学元件与所述工件之间的所述间隙，以及所供应的所述沉浸液体从收集开口收集，所述方法包括如下步骤：在清洗处理期间从所述供应开口供应清洗液体；以及从所述收集开口收集所供应的所述清洗液体。