[发明专利]一种晶体硅及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610817233.X 申请日: 2016-09-12
公开(公告)号: CN106222742B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 刘海;罗鸿志;胡动力;何亮 申请(专利权)人: 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06;C30B11/04;C30B15/04
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 338000 江西省新余*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供了一种晶体硅的制备方法,包括:将多晶硅料和掺杂剂加入到铸锭炉或单晶炉的坩埚内,掺杂剂为含有掺杂元素的单质、合金、氧化物和氮化物中的一种或多种;掺杂元素包括硼、镓和锑;多晶硅料中,镓、锑和硼三种元素的原子浓度比为1:(0.15‑0.3):(0.005‑0.1);在保护气体存在下,加热使多晶硅料和掺杂剂完全熔化形成硅熔体,调节晶体硅生长参数,使硅熔体开始长晶,待坩埚内的硅熔体结晶完毕后,得到晶体硅。本发明提供的晶体硅的制备方法,解决了晶体硅的电阻率分布较宽的问题,提高了晶体硅的收率;方便了头尾料的回收,降低了晶体硅的应用成本。本发明还提供了一种晶体硅,该晶体硅电阻率分布集中,利用该晶体硅制成的太阳能电池片的光衰大大降低。
搜索关键词: 一种 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种晶体硅的制备方法,其特征在于,包括:将多晶硅料和掺杂剂加入到铸锭炉或单晶炉的坩埚内,所述掺杂剂为含有掺杂元素的单质、合金、氧化物和氮化物中的一种或多种;所述掺杂元素包括硼、镓和锑;所述多晶硅料中,所述镓元素的初始原子浓度为1ppma‑100ppma,所述镓、所述锑和所述硼三种元素的原子浓度比为1:(0.15‑0.3):(0.005‑0.1);在保护气体存在下,加热使所述多晶硅料和掺杂剂完全熔化形成硅熔体,调节晶体硅生长参数,使所述硅熔体开始长晶,待所述坩埚内的硅熔体结晶完毕后,得到晶体硅。
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