[发明专利]一种晶体硅及其制备方法有效
申请号: | 201610817233.X | 申请日: | 2016-09-12 |
公开(公告)号: | CN106222742B | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 刘海;罗鸿志;胡动力;何亮 | 申请(专利权)人: | 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06;C30B11/04;C30B15/04 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 338000 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明提供了一种晶体硅的制备方法,包括:将多晶硅料和掺杂剂加入到铸锭炉或单晶炉的坩埚内,掺杂剂为含有掺杂元素的单质、合金、氧化物和氮化物中的一种或多种;掺杂元素包括硼、镓和锑;多晶硅料中,镓、锑和硼三种元素的原子浓度比为1:(0.15‑0.3):(0.005‑0.1);在保护气体存在下,加热使多晶硅料和掺杂剂完全熔化形成硅熔体,调节晶体硅生长参数,使硅熔体开始长晶,待坩埚内的硅熔体结晶完毕后,得到晶体硅。本发明提供的晶体硅的制备方法,解决了晶体硅的电阻率分布较宽的问题,提高了晶体硅的收率;方便了头尾料的回收,降低了晶体硅的应用成本。本发明还提供了一种晶体硅,该晶体硅电阻率分布集中,利用该晶体硅制成的太阳能电池片的光衰大大降低。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶体硅的制备方法,其特征在于,包括:将多晶硅料和掺杂剂加入到铸锭炉或单晶炉的坩埚内,所述掺杂剂为含有掺杂元素的单质、合金、氧化物和氮化物中的一种或多种;所述掺杂元素包括硼、镓和锑;所述多晶硅料中,所述镓元素的初始原子浓度为1ppma‑100ppma,所述镓、所述锑和所述硼三种元素的原子浓度比为1:(0.15‑0.3):(0.005‑0.1);在保护气体存在下,加热使所述多晶硅料和掺杂剂完全熔化形成硅熔体,调节晶体硅生长参数,使所述硅熔体开始长晶,待所述坩埚内的硅熔体结晶完毕后,得到晶体硅。
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