[发明专利]一种N型双面电池的制作方法有效
| 申请号: | 201610813167.9 | 申请日: | 2016-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN106298982B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | 王东;杨洁;王金艺;黄纪德;金井升;蒋方丹;金浩;张昕宇 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
| 地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种N型双面电池的制作方法,包括:步骤1,对碱制绒后的N型硅片进行正面硼扩散,形成硼硅玻璃掩膜,并刻蚀去除背结;步骤2,对所述N型硅片的背面进行磷扩散,形成磷硅玻璃层;步骤3,去除所述硼硅玻璃掩膜和所述磷硅玻璃层;步骤4,对所述N型硅片进行热氧化;步骤5,对热氧化后的所述N型硅片的背面进行PECVD镀SiNx层;步骤6,去除所述N型硅片的正面在所述热氧化中形成的氧化硅层;步骤7,对所述N型硅片的正面镀正面钝化层。通过将完成正面硼扩散和背面磷扩散的N型硅片进行热氧化,再背面PECVD镀SiNx层,使得背面的总的钝化层为SiOx层加SiNx层,优化太阳能电池的背面钝化效果,增大开压和短路电流,使得电池的转换效率有所提升。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 双面 电池 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种N型双面电池的制作方法,其特征在于,包括:步骤1,对碱制绒后的N型硅片进行正面硼扩散,形成硼硅玻璃掩膜,并刻蚀去除背结;步骤2,对所述N型硅片的背面进行磷扩散,形成磷硅玻璃层;步骤3,去除所述硼硅玻璃掩膜和所述磷硅玻璃层;步骤4,对所述N型硅片进行热氧化;步骤5,对热氧化后的所述N型硅片的背面进行PECVD镀SiNx层;步骤6,去除所述N型硅片的正面在所述热氧化中形成的氧化硅层;步骤7,对所述N型硅片的正面镀正面钝化层;所述去除所述N型硅片的正面在所述热氧化中形成的氧化硅层,包括:将热氧化后的所述N型硅片浸泡在体积比为10%的HF中浸泡1min~1.5min,去除所述N型硅片的正面在所述热氧化中形成的氧化硅层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





