[发明专利]使用新类电子束诱发表面处理技术的纳米制造在审

专利信息
申请号: 201610812812.5 申请日: 2016-09-09
公开(公告)号: CN106521449A 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: J.比肖普;T.T.特兰;I.阿哈罗诺维奇;C.罗波;M.托思 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 申屠伟进,陈岚
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及使用新类电子束诱发表面处理技术的纳米制造。描述了用于基于衬底的表面化学的电子束诱发改变的直接光刻图案限定的方法和系统。所述方法涉及用于全局限定指定的表面化学(SC)的初始化学处理。然后气态前体和表面之间的电子束诱发表面反应用于局部改变SC。由此可以实现在衬底上的稳定的指定的表面化学的高分辨率图案化。然后限定的图案可用于经由采用特定SC组合的特异性的方法或者通过表面能量差的选择性材料沉积。可能的是,在不打破真空的情况下原位执行所有步骤。
搜索关键词: 使用 电子束 诱发 表面 处理 技术 纳米 制造
【主权项】:
一种带电粒子束处理表面的选择性区域的方法,该方法包括:执行第一工件表面改性,第一工件表面改性活化或者钝化工件表面上的广阔的不定域区;将工件载入电子束系统的样品室中;将前体气体引入样品室中;在存在前体气体的情况下使用电子束执行第二工件表面改性,第二工件表面改性活化或者钝化工件表面上的特定的定域区;第一或第二工件表面改性中的一个是表面活化,以及一个是表面钝化;以及将材料粘附到工件表面上的被活化区。
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