[发明专利]在纳米压印光刻中减少填充时间的基材预处理有效
| 申请号： | 201610811661.1 | 申请日： | 2016-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN106842835B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫;蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克;刘卫军 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及在纳米压印光刻中减少填充时间的基材预处理。一种纳米压印光刻方法，其包括将预处理组合物配置在基材上从而形成预处理涂层。预处理组合物包括聚合性组分。离散的压印抗蚀剂部分配置在预处理涂层上，其中压印抗蚀剂的各离散部分覆盖基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分超出其目标区域展开，复合聚合性涂层形成于基材上。复合聚合性涂层包括预处理组合物和压印抗蚀剂的混合物。复合聚合性涂层与模板接触并且聚合，从而得到在基材上的复合聚合物层。预处理组合物与空气之间的界面能超过压印抗蚀剂与空气之间或压印抗蚀剂的至少一个组分与空气之间的界面能。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 光刻 减少 填充 时间 基材 预处理 | ||
【主权项】：
一种纳米压印光刻方法，其特征在于，其包括：将预处理组合物配置在基材上从而在所述基材上形成预处理涂层，其中所述预处理组合物包含聚合性组分；将压印抗蚀剂的离散部分配置在所述预处理涂层上，所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖所述基材的目标区域，其中所述压印抗蚀剂是聚合性组合物；随着所述压印抗蚀剂的各离散部分超出其目标区域展开，在所述基材上形成复合聚合性涂层，其中所述复合聚合性涂层包括所述预处理组合物和所述压印抗蚀剂的混合物；使所述复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触；和使所述复合聚合性涂层聚合从而得到在所述基材上的复合聚合物层，其中所述预处理组合物与空气之间的界面能超过所述压印抗蚀剂与空气之间或所述压印抗蚀剂的至少一个组分与空气之间的界面能。
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