[发明专利]光掩模及黑色光阻间隔层的制备方法有效
| 申请号： | 201610800001.3 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106125500B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 叶成亮 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/32 | 分类号： | G03F1/32;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光掩模，用于制造黑色光阻间隔层，所述光掩模包括透明衬底和形成在所述衬底上的遮光层，所述遮光层具有第一缝隙，所述第一缝隙的缝宽为2微米至5微米。本发明所述光掩模可用于制作液晶显示面板的黑色光阻间隔层，使得液晶显示面板具有较高的产品良率。本发明还公开一种黑色光阻间隔层的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 色光 间隔 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光掩模，用于制造黑色光阻间隔层，其特征在于，所述光掩模包括透明衬底、多个挡光条及形成在所述衬底上的遮光层，所述遮光层具有第一缝隙，所述第一缝隙的缝宽为2微米至5微米，所述多个挡光条间隔设置在所述第一缝隙内，相邻的所述挡光条之间形成狭缝，所述狭缝的透光率大于所述挡光条的透光率；所述第一缝隙内形成有灰色调膜层，所述灰色调膜层包括透光率较高的第一区和透光率较低的第二区，所述第一区正对所述挡光条设置，所述第二区正对所述狭缝区设置。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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