[发明专利]一种金属波导‑基片集成波导功分器在审

专利信息
申请号: 201610794083.5 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106229596A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 程钰间;王俊;郑雨阳;雷星宇;樊勇;张永鸿;宋开军;张波;林先其;赵明华 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P5/12 分类号: H01P5/12
代理公司: 电子科技大学专利中心51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于毫米波段功分器设计和制造的技术领域,一种新型金属波导‑基片集成波导功分器,包括基片集成波导和金属直波导;所述基片集成波导包括从下往上依次层叠的底层覆铜层、介质层、顶层覆铜层,以及贯穿底层覆铜层、介质层和顶层覆铜层的两排金属化孔;其特征在于,所述基片集成波导的底层覆铜层上还开设有馈电口,所述馈电口位于基片集成波导中心、且大小与金属直波导口保持一致,所述金属直波导通过馈电口垂直馈电至基片集成波导。本发明从结构上来说,简化了馈电结构、减小了尺寸,便于系统集成和小型化;从电性能上来说,提高馈电效率、减小损耗;同时,可以根据实际需要设计输出端口的同相/反相输出。
搜索关键词: 一种 金属 波导 集成 功分器
【主权项】:
一种金属波导‑基片集成波导功分器,包括基片集成波导和金属直波导;所述基片集成波导包括从下往上依次层叠的底层覆铜层、介质层、顶层覆铜层,以及贯穿底层覆铜层、介质层和顶层覆铜层的两排金属化孔;其特征在于,所述基片集成波导的底层覆铜层上还开设有馈电口,所述馈电口位于基片集成波导中心、且大小与金属直波导口保持一致,所述金属直波导通过馈电口垂直馈电至基片集成波导。
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