[发明专利]电化学镀铜洗边装置以及电化学镀铜洗边方法有效
申请号: | 201610790760.6 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN106252261B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 曹玉荣;张守龙;赵正元;李虎 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种电化学镀铜洗边装置以及电化学镀铜洗边方法。本发明的电化学镀铜洗边装置包括:用于抓住晶圆的侧面的多个垂直夹具、布置在晶圆侧边的喷嘴、以及与喷嘴连接的洗边溶液供给装置;其中,垂直夹具具有中间镂空结构,使得垂直夹具与晶圆的侧面接触的区域为中间镂空结构的边框部分。本发明采用具有合适强度的材料,改善垂直夹具的结构,将其做成中间镂空的结构;以减小垂直夹具与晶圆接触的面积,从而减少当洗边溶液经过时垂直夹具对洗边溶液的回弹量。由此,本发明在保证洗边效果的前提下,提出了一种可提高洗边宽度均匀性的方案,有效提高晶圆边缘芯片的质量,从而提高良率,减少经济损失。 | ||
搜索关键词: | 电化学 镀铜 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电化学镀铜洗边装置,其特征在于,所述电化学镀铜洗边装置用于90nm、65nm、45nm的芯片生产,包括:用于抓住晶圆的侧面的三个垂直夹具、布置在晶圆侧边的喷嘴、以及与喷嘴连接的洗边溶液供给装置;其中,每个所述垂直夹具具有中间镂空结构,使得所述垂直夹具与晶圆的侧面接触的区域为中间镂空结构的边框部分;三个所述垂直夹具均匀布置在晶圆周围;在所述电化学镀铜洗边装置工作时,所述洗边溶液供给装置被提供有恒定电流,从而向所述喷嘴提供洗边溶液,以使所述喷嘴向晶圆边缘喷洒洗边溶液,且所述喷嘴向晶圆边缘喷洒洗边溶液时的洗边溶液流速固定,以减少当所述洗边溶液经过时所述垂直夹具对所述洗边溶液的回弹量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造