[发明专利]显影设备在审
| 申请号： | 201610786168.9 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106125518A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 郭开超;欧阳志华 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G02F1/13 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。本发明的显影设备，能够保证PR显影制程中玻璃基板前后端的显影液浓度均匀，从而很好地消除基板前后端的CD差异，提升液晶显示器的亮度均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 设备 | ||
【主权项】：
一种显影设备，用于基板的显影制程，其特征在于，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。
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