[发明专利]一种钕铁硼电镀Dy薄膜工艺

摘要

一种钕铁硼电镀Dy薄膜工艺，属于金属材料的镀覆技术领域，包括以下步骤：将选出的粗粉使用硝酸进行酸洗，再进行超声波震荡去灰等前处理；采用氯化镝酸性镀镝工艺，对粗粉进行镀镝处理，获得表面镀有0.05‑0.1um的薄镝层，并对电镀后的粗粉进行脱水干燥处理；制得主相晶粒3.2‑3.6um，晶界相连续光滑分布的烧结磁体。本工艺采用电镀工艺将Dy元素镀在烧结钕铁硼主相晶粒表面，而非熔炼时添加重稀土Dy和Tb，避免了Dy和Tb进入主相造成Br的降低。

主权项

1.一种钕铁硼电镀Dy薄膜工艺，其特征是：包括以下步骤：步骤1，配比含微量元素M金属元素，且稀土总量低于接近理论极限29wt%的原料，用速凝薄片工艺制成钕铁硼速凝薄片，M包含Al、Cu和Ga；步骤2，将该钕铁硼速凝薄片进行半饱和氢破，保证粗粉颗粒分布在40‑100um，进行脱氢，并取出粉料；步骤3，对粗粉进行过筛，将低于40um的筛出；步骤4，将选出的粗粉使用硝酸进行酸洗，再进行超声波震荡去灰前处理；将粗粉装入特别制作的电镀滚筒中，滚筒网眼10‑20um，粗粉漏不出，但能保证良好的导电性及镝金属离子的通过性；采用酸性镀镝工艺，配制氯化镝（DyCL3）50‑70g/L，氯化钾(KCL)180‑220g/L，硼酸（H3BO3）30‑40g/L，润湿剂0.2‑0.4g/L，表面活性剂1‑1.5g/L，PH值5.4‑5.8，阳极采用99.99%的纯镝块，电流密度0.05‑0.2A/dm2，电镀时间10分钟；对粗粉进行镀镝处理，获得表面镀有0.05‑0.1um的薄镝层，并对电镀后的粗粉进行脱水干燥处理；步骤5，然后对已镀镝的粗粉装桶并加入0.1‑0.5%的YSH6高分子聚合物润滑剂；步骤6，对粗粉进行搅拌混合，然后使用流化床气流磨对粗粉进行磨削，将细粉粒度粒度控制在2.7‑3.0um；完成磨粉后，对细粉进行装桶，并加入0.1‑0.5%的YSH1低分子聚合物防氧化剂；步骤7，对细粉进行搅拌混匀，并在磁场取向压机中采用1.2‑2.0T的磁场中径向取向成型，成型完成后对压制出来的生坯进行真空包装，并采用冷等静压机进行等静压，等静压压力180‑220MPa；步骤8，拨开生坯的外包装，装入烧结盆中，采用真空烧结炉，在1000‑1100℃烧结2‑5h，再经过800‑1000℃回火1‑2小时和450‑650 ℃回火2‑5h；步骤9，制得主相晶粒3.2‑3.6um，晶界相连续光滑分布的烧结磁体。