[发明专利]一种火焰探测用红外滤光片及其制备方法

摘要

本发明公开了一种火焰探测用红外滤光片及其制备方法，红外滤光片基底材料选用单晶Si；高折射率材料选用Ge；低折射率材料选用SiO。在基板两个表面上分别沉积主膜系面薄膜和干涉截止膜系面薄膜，其镀膜工艺条件是Ge选用电子束蒸镀，沉积速率为SiO选用多孔钼舟电热蒸镀，沉积速率为开始蒸镀真空度为1.0×10^‑3Pa，沉积温度为200℃。本发明提供的一种火焰探测用红外滤光片及其制备方法得到的4530nm带通红外滤光片，峰值透过率可达90％以上，极大的提高信噪比，很好的抑制其他气体的干扰，提高仪器探测精度和效能。

主权项

1.一种火焰探测用红外滤光片，其特征在于：(1)采用单晶Si作基板；硅双面抛光，厚度300±10μm，晶向<100>；(2)镀膜材料选择一氧化硅SiO和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积主膜系面薄膜和干涉截止膜系面薄膜；(3)主膜系面薄膜结构采用：Sub/(HL)6H(LH)L(HL)4H(LH)L(HL)6H(LH)L/Air；(4)干涉截止膜系面薄膜采用：Sub/0.419(HL)6 0.618(HL)6 1.589(HL)6/Air；膜系中符号含义分别为：Sub为基板，Air为空气，H和L分别代表高折射率材料Ge膜层和低折射率材料SiO膜层的一个1/4波长光学厚度，中心波长λ＝4530nm，1H＝(4nH d)/λ；1L＝(4nL d)/λ，结构式中数字为膜层的厚度系数、结构式中的指数是膜堆镀膜的周期数；所述红外滤光片，主膜系采用多腔窄带膜系结构，配合高截止深度的干涉截止膜系，中心波长为4530nm，4490nm～4570nm波段平均透过率为90.2％，半高宽为100nm；除中心波长4530nm带宽100nm的通带外，从1500～10000nm范围内的其余光谱全部截止，1500～4450nm平均透射率为0.1％，4610‑1000nm平均透射率为0.16％。