[发明专利]Cr2O3掺杂Al2O3溅射靶材的制备方法

摘要

Cr₂O₃掺杂Al₂O₃溅射靶材的制备方法，选择粒径为0.5‑6μm的球形Cr₂O₃粉和Al₂O₃粉为原料，按比例混合均匀压制毛坯，然后置于大气烧结炉中进行烧结，降温后对半成品进行加工处理，得到Cr₂O₃掺杂Al₂O₃溅射靶材。离子掺杂改善Al₂O₃薄膜的晶型，相对理论密度高，制备出的薄膜膜层致密，不易从基体脱落，导电和发光等特性提高，而且寿命长。

主权项

1.Cr2O3掺杂Al2O3溅射靶材的制备方法，制备方法具体包含以下步骤：1)：选择粒径为0.5‑6μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为0.5％‑2％；2)：将原料粉装入钢模中压制，压制压力为10‑30MPa；3)：将压制好的毛坯放置在平整刚玉托盘上，置于大气烧结炉中进行烧结，烧结温度为1400℃—1600℃，1200℃之前升温速度为20℃/min，1200℃以上升温速度为5℃/min，最高温度保持5—10小时；4)：降温后对半成品进行加工处理，确保所有平面保持平整，并且角部成直角，得到Cr2O3掺杂Al2O3溅射靶材；其特征在于：选择粒径为0.5‑3μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为0.5％，成型压力为16MPa，烧结时间为6小时，制得的靶材相对理论密度为94.6％；选择粒径为0.5‑3μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为0.5％，成型压力为20MPa，烧结时间为6小时，制得的靶材相对理论密度为96.1％；选择粒径为0.5‑3μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为0.5％，成型压力30MPa，烧结时间6小时，靶材相对理论密度96％；选择粒径为0.5‑3μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为1％，成型压力30MPa，烧结时间10小时，靶材相对理论密度98.3％；选择粒径为3‑5μm的球形Cr2O3粉和Al2O3粉为原料，按比例混合均匀，其中Cr2O3的质量含量为1％，成型压力30MPa，烧结时间10小时，靶材相对理论密度95％。