[发明专利]一种ITO镀膜返工处理蚀刻液及其制备方法在审
| 申请号： | 201610717761.8 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN106381147A | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 陈新华;严由雄;刘生华 | 申请（专利权）人： | 赣州帝晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 341000 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明属于TFT‑LCD减薄镀膜领域，本发明公开了一种ITO镀膜返工处理蚀刻液及其制备方法。ITO镀膜返工处理蚀刻液，由盐酸、草酸、有机多元磷酸、碘酸和纯水五种原料混合均匀而成；该ITO镀膜返工处理蚀刻液制备工艺，包括将强酸性阳离子交换树脂加入到盐酸中，搅拌混合，然后滤出强酸性阳离子交换树脂，控制或去除盐酸中的杂质离子；将草酸晶体、部分纯水、盐酸、有机多元磷酸、碘酸、剩余纯水，最后过滤制得ITO镀膜返工处理蚀刻液；有益效果本发明的蚀刻液对ITO层的浸润性好，保证TFT‑LCD上的ITO能够完全蚀刻，从而减少产品的报废率；蚀刻后微晶体残留很少，保证蚀刻液在使用的过程中不会堵塞过滤器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 镀膜 返工 处理 蚀刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种ITO镀膜返工处理蚀刻液，其特征在于，由盐酸、草酸、有机多元磷酸、碘酸和纯水五种原料混合均匀而成；每种原料的重量百分比分别为：盐酸10％～20％，草酸5％～15％，有机多元膦酸3％～5％，碘酸1％～2.5％，其余为纯水。
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