[发明专利]偏移校准方法及系统

摘要

本发明提供了一种偏移校准方法及系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。本发明提供的偏移校准方法及系统，能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset)，从而可以避免混色和和不良品的出现。

主权项

一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，其特征在于，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板；所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(X_s,Y_s)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(X_m,Y_m)；ΔX₁＝X_m‑X_s；ΔY₁＝Y_m‑Y_s；ΔX₂＝(cosθ‑1)*X_m‑Y_m*sinθ；ΔY₂＝X_m*sinθ+(cosθ‑1)*Y_m；θ为所述旋转角度；ΔX₃＝ΔX₁+ΔX₂+ΔX；ΔY₃＝ΔY₁+ΔY₂+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX₃，ΔY₃分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX₃，ΔY₃满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY；或者,所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(X_s,Y_s)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(X_m,Y_m)；ΔX₁＝X_m‑X_s；ΔY₁＝Y_m‑Y_s；X’＝R*cos(θ₁+θ₂)；Y’＝R*sin(θ₁+θ₂)；θ₂＝arc tan(Y_m/X_m)；θ₁为所述旋转角度；ΔX₂＝X’‑X_m；ΔY₂＝Y’‑Y_m；ΔX₃＝ΔX₁+ΔX₂；ΔY₃＝ΔY₁+ΔY₂；ΔX₄＝ΔX₃+ΔX；ΔY₄＝ΔY₃+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX₄，ΔY₄分别为在基于θ₁、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX₄，ΔY₄满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ₁和所述平移量ΔX、ΔY。