[发明专利]一种像素bank及其制作方法、发光二极管

摘要

本发明公开一种像素bank及其制作方法、发光二极管，其中，像素bank的制作方法包括步骤：A、在基板上依次沉积透明像素电极薄膜以及反射金属薄膜，并对透明像素电极薄膜以及反射金属薄膜进行图案化处理；B、在反射金属薄膜上沉积用于制作像素bank的负性光阻薄膜，并利用曝光掩膜进行曝光；C、对负性光阻薄膜进行显影，形成像素bank；D、然后进行后烘，在像素bank上形成倾斜角；E、以像素bank为掩膜对反射金属薄膜进行刻蚀，露出透明像素电极薄膜。本发明提高了产品品质，节约了制作成本；由于反射金属薄膜的导电率要大于透明像素电极，还能降低驱动TFT S/D电极到发光区像素电极之间的电阻，减小因电阻导致的信号延迟以及降低显示面板的功耗。

主权项

1.一种像素bank的制作方法，包括步骤：沉积用于制作像素bank的负性光阻薄膜，并利用曝光掩膜进行曝光；对负性光阻薄膜进行显影，形成像素bank，其特征在于，所述沉积用于制作像素bank的负性光阻薄膜，并利用曝光掩膜进行曝光的步骤之前，还包括步骤：在基板上沉积透明像素电极薄膜，在所述透明像素电极薄膜上沉积反射金属薄膜，并对透明像素电极薄膜以及反射金属薄膜进行图案化处理；所述用于制作像素bank的负性光阻薄膜沉积于所述反射金属薄膜上；所述对负性光阻薄膜进行显影，形成像素bank的步骤之后，还包括步骤：对所述像素bank进行后烘，在像素bank上形成倾斜角；以所述像素bank为掩膜对反射金属薄膜进行刻蚀，露出透明像素电极薄膜。