[发明专利]对位方法及对位系统有效
| 申请号： | 201610682413.1 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN106054543B | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 王辉;王志强;张力舟;高琪;申洋;李明龙;王强 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对位方法及对位系统，其方法包括：采集步骤，采集各个对位区域的图像；判断步骤，判断所有的图像中对位标记的匹配程度是否均达到设定标准，若是，则根据所有的对位区域进行对位步骤；若否，则进行筛选步骤；筛选步骤，自所有的对位区域中筛选出匹配程度最高的至少一个对位区域，并根据筛选出的至少一个对位区域进行对位步骤；对位步骤，将基板的对位标记与掩膜版的对位标记进行对中，以实现基板和掩膜版的位置匹配。本发明提供的对位方法，其可以提高自动对位的成功率，从而不仅可以避免因对位误差过大而造成的层间对位偏移，而且还可以提高对位效率，从而提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 对位 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种对位方法，用于实现基板和掩膜版的位置匹配，所述基板和掩膜版分别具有多个对位区域，且在每个所述对位区域内设置有对位标记，所述基板与所述掩膜版的对位标记用于作为所述基板和所述掩膜版的对位基准，其特征在于，包括：采集步骤，采集各个所述对位区域的图像；判断步骤，判断所有的所述图像中所述对位标记的匹配程度是否均达到设定标准，若是，则根据所有的所述对位区域进行对位步骤；若否，则进行筛选步骤；筛选步骤，自所有的所述对位区域中筛选出匹配程度最高的至少一个对位区域，并根据筛选出的所述至少一个对位区域进行对位步骤；对位步骤，将所述基板的对位标记与所述掩膜版的对位标记进行对中，以实现所述基板和掩膜版的位置匹配。
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