[发明专利]基于掩模技术的磁环表面缺陷提取方法在审
| 申请号： | 201610651959.0 | 申请日： | 2016-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN106296687A | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李俊峰;张之祥;沈军民;陈龙 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司33109 | 代理人： | 尉伟敏,阎忠华 |
| 地址： | 310018 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于掩模技术的磁环表面缺陷提取方法，包括如下步骤：利用OTSU分割磁环图像，得到磁环二值图像B(X，Y)；利用最小二乘法拟合磁环图像内外轮廓，计算磁环的内外径以及圆心坐标；构造掩模图像MR×R(X，Y)和PR×R(X，Y)；对掩模图像MR×R(X，Y)和PR×R(X，Y)进行与运算，得到缺陷连通域图像K(X，Y)。本发明具有运行效率高和准确率高，稳定性和鲁棒性强，能够识别常见的缺陷的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 技术 表面 缺陷 提取 方法 | ||
【主权项】：
一种基于掩模技术的磁环表面缺陷提取方法，其特征是，包括如下步骤：(1‑1)利用OTSU分割磁环图像，得到磁环二值图像B(X，Y)；(1‑2)利用最小二乘法拟合磁环图像内外轮廓，计算磁环的内外径以及圆心坐标；(1‑3)构造掩模图像MR×R(X，Y)和PR×R(X，Y)；(1‑4)对掩模图像MR×R(X，Y)和PR×R(X，Y)进行与运算，得到缺陷连通域图像K(X，Y)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江理工大学，未经浙江理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610651959.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
