[发明专利]一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置有效
申请号: | 201610647442.4 | 申请日: | 2016-08-09 |
公开(公告)号: | CN106293294B | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 邹祥祥 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置,用以提供一种制作触控模组的方法,节省了制作触控检测电极时设置的掩模版,从而减少触控模组的制作成本。所述触控模组的制作方法,包括:在衬底基板上形成黑矩阵的图形,其中,所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部;以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版,通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。 | ||
搜索关键词: | 一种 模组 及其 制作方法 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种触控模组的制作方法,其特征在于,该方法包括:在衬底基板上形成黑矩阵的图形,其中,所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部;以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版,通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形,包括:在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成负性光刻胶层;以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版,通过曝光、显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域;在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层;剥离所述负性光刻胶完全保留区域所对应的负性光刻胶和触控检测电极,形成触控检测电极的图形。
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