[发明专利]一种光学微腔结构、制造方法及测量方法在审
| 申请号： | 201610632873.3 | 申请日： | 2016-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN106352805A | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 陈树明;冯渊翔;王为高 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 孟金喆,胡彬 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构、制造方法及测量方法，其中一种光学微腔结构，包括全反射层，所述全反射层承载于一衬底之上；待测薄膜层，设置于所述反射层表面；半反射膜层，设置于所述待测薄膜层表面。本申请中，通过半反射层与待测薄膜层的接触表面形成第一介质分界面，待测薄膜层与全发射膜层的接触表面形成第二介质分界面。入射光在第一介质分界面与第二介质分界面之间来回反复反射，一束光线通过第一介质分界面、第二介质分界面形成多束用以产生干涉效应的光线，使得反射谱上呈现出较明显的尖锐干涉峰，有利于在后续测量过程中，能够较准确地实现光谱拟合，提高待测薄膜厚度测量准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 结构 制造 方法 测量方法 | ||
【主权项】：
一种用于测量光学薄膜厚度的光学微腔结构，其特征在于，包括全反射层，所述全反射层承载于一衬底之上；待测薄膜层，设置于所述反射层表面；半反射膜层，设置于所述待测薄膜层表面。
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