[发明专利]半导体受光元件有效
| 申请号: | 201610617954.6 | 申请日: | 2016-07-29 |
| 公开(公告)号: | CN106409966B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | 山口晴央 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 得到一种半导体受光元件,该半导体受光元件能够抑制漏电流、防止受光灵敏度的降低。在半绝缘衬底(1)之上依次层叠有缓冲层(2)、p型接触层(3)、光吸收层(4)、p型电场缓和层(6)、电子倍增层(7)、n型电场缓和层(8)以及n型接触层(10)。缓冲层(2)具有使InP层(2a)和AlxGayIn1‑x‑yAs层(2b)交替地层叠的超晶格,缓冲层(2)不吸收由光吸收层(4)进行吸收的波段的光,其中,0.16≤x≤0.48,0≤y≤0.31。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体受光元件,其特征在于,具有:半绝缘性衬底;以及在所述半绝缘性衬底之上依次层叠的缓冲层、p型接触层、光吸收层、p型电场缓和层、电子倍增层、n型电场缓和层以及n型接触层,所述缓冲层具有使厚度0.02~0.05μm的InP层和厚度0.02~0.05μm的AlxGayIn1‑x‑yAs层交替地层叠的超晶格,所述缓冲层形成相对于电子的障壁,不吸收由所述光吸收层进行吸收的波段的光,其中,0.16≤x≤0.48,0≤y≤0.31。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610617954.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多媒体智能放映梁式主机
- 下一篇:一种数字机顶盒系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





