[发明专利]半导体受光元件有效

专利信息
申请号: 201610617954.6 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN106409966B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 山口晴央 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 得到一种半导体受光元件,该半导体受光元件能够抑制漏电流、防止受光灵敏度的降低。在半绝缘衬底(1)之上依次层叠有缓冲层(2)、p型接触层(3)、光吸收层(4)、p型电场缓和层(6)、电子倍增层(7)、n型电场缓和层(8)以及n型接触层(10)。缓冲层(2)具有使InP层(2a)和AlxGayIn1‑x‑yAs层(2b)交替地层叠的超晶格,缓冲层(2)不吸收由光吸收层(4)进行吸收的波段的光,其中,0.16≤x≤0.48,0≤y≤0.31。
搜索关键词: 半导体 元件
【主权项】:
1.一种半导体受光元件,其特征在于,具有:半绝缘性衬底;以及在所述半绝缘性衬底之上依次层叠的缓冲层、p型接触层、光吸收层、p型电场缓和层、电子倍增层、n型电场缓和层以及n型接触层,所述缓冲层具有使厚度0.02~0.05μm的InP层和厚度0.02~0.05μm的AlxGayIn1‑x‑yAs层交替地层叠的超晶格,所述缓冲层形成相对于电子的障壁,不吸收由所述光吸收层进行吸收的波段的光,其中,0.16≤x≤0.48,0≤y≤0.31。
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