[发明专利]一种显示基板、显示装置及制作方法有效
| 申请号： | 201610608164.1 | 申请日： | 2016-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN106019692B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 赵婷婷;杨通;徐朝哲;李纪;王立森 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 刘伟;胡影 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示基板、显示装置及制作方法，该显示基板的制作方法包括：形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体。本发明实施例中，在形成显示基板的过程中形成偏光层，用于代替现有技术中的偏光片，从而无需使用单独的贴附工艺设备将偏光片贴附在显示面板上，从而减少了显示装置的制作工艺。另外，位于显示基板中的膜层的厚度要小于偏光片的厚度，因而有利于实现轻薄化的显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 显示装置 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成偏光层，所述偏光层采用的材料为掺杂有偏光材料的胶体；所述胶体为光刻胶，所述形成偏光层的步骤包括：形成显示基板的预定功能层材料薄膜；在所述预定功能层材料薄膜上涂覆掺杂有偏光材料的光刻胶，形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光并显影，形成光刻胶层图形；以所述光刻胶层图形为掩膜，对所述预定功能层材料薄膜进行刻蚀，形成预定功能层的图形；对所述光刻胶层图形进行平坦化处理，形成覆盖所述显示基板的显示区域的偏光层。
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