[发明专利]高填充红外探测器像元结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610605284.6 申请日: 2016-07-28
公开(公告)号: CN106430076B 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 康晓旭 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00;B81C1/00;G01J5/22
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 代理人: 吴世华,尹英
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种高填充红外探测器像元结构及其制备方法,包括在硅衬底上形成导电梁结构和导电梁结构上形成红外探测结构;每一层导电沟槽的底部与其下方相邻层的导电沟槽的顶部分别接触连接于一导电梁的两端;其中一层导电沟槽的底部与导电金属区相接触;导电梁结构的最顶层中具有顶层导电沟槽和顶层导电梁;顶层导电梁与红外探测结构相接触连接,使微桥结构位于导电梁结构之上,每一层的导电沟槽和导电梁构成了迂回阶梯状的结构,从而使微桥结构产生的电信号的传输路径呈迂回阶梯状;微桥结构产生的电信号从顶层导电梁传输到顶层导电沟槽的顶部,再传输到顶层导电沟槽的底部,经过多层导电沟槽和导电梁之间的传输,最后传输到导电金属区。
搜索关键词: 填充 红外探测器 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种红外探测器像元结构,位于一硅衬底上,硅衬底表面具有导电金属区;红外探测结构,位于硅衬底上方,用于探测红外光并产生电信号;导电梁结构,与红外探测结构相电连,用于将红外探测结构产生的电信号传输到导电金属区;其特征在于,导电梁结构包括:位于导电梁结构最顶层的导电梁,以及多层导电沟槽;每一层导电沟槽的底部与其下方相邻层的导电沟槽的顶部分别连接于一导电梁的两端;其中一层导电沟槽的底部与导电金属区相接触;导电梁结构的最顶层中具有顶层导电沟槽和顶层导电梁;顶层导电梁与红外探测结构相连接,使所述红外探测结构位于导电梁结构之上,每一层的导电沟槽和导电梁构成了迂回阶梯状的结构,从而使所述红外探测结构产生的电信号的传输路径呈迂回阶梯状;红外探测结构产生的电信号从顶层导电梁传输到顶层导电沟槽的顶部,再传输到顶层导电沟槽的底部,经过多层导电沟槽和导电梁之间的传输,最后传输到导电金属区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610605284.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top