[发明专利]旋转预混气的MOCVD上下盘匀气组件有效

专利信息
申请号: 201610596826.8 申请日: 2016-07-26
公开(公告)号: CN106011792B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 梁勇;曾一平;王军喜;段瑞飞;李晋闽;李辉 申请(专利权)人: 北京中科优唯科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 100176 北京市大兴区经济*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 专利公开了一种在匀气盘内预先混气的匀气组件,包括:第一混气空腔,所述混气空腔中具有圆形截面的第一混气空间,所述第一混气空间中设置有第一喷嘴和第二喷嘴组;所述第一喷嘴沿着所述圆形的直径向内和向外两个方向喷射第一气体;所述第二喷嘴组包括多个沿着所述圆形半径设置的第二喷嘴,所述第二喷嘴沿着垂直于所述半径的方向喷射第二气体,形成旋转气流;第二混气空腔,一腔壁上设置有入口与所述第一混气空腔连通;另一腔壁上设置有出口与匀气组件外部连通;以及冷却层。通过采用上述技术方案,能够提高MOCVD反应气体混合的均匀程度,并且利用冷却层隔离所述匀气组件和周围环境,避免了混合气体在所述匀气组件中的预反应。
搜索关键词: 旋转 预混气 mocvd 下盘 组件
【主权项】:
1.一种旋转预混气匀气组件,其特征在于,包括:第一混气空腔,所述混气空腔中具有圆形截面的第一混气空间,所述第一混气空间中设置有第一喷嘴和第二喷嘴组;所述第一喷嘴沿着所述圆形的半径向内和向外两个方向喷射第一气体;所述第二喷嘴组包括多个沿着所述圆形半径设置的第二喷嘴,所述第二喷嘴沿着垂直于所述半径的方向喷射第二气体,形成旋转气流;第二混气空腔,一腔壁上设置有入口与所述第一混气空腔连通;另一腔壁上设置有出口与匀气组件外部连通;所述第一混气空腔和所述第二混气空腔之间设置有匀气屏,所述匀气屏上设置有多个匀气孔,所述匀气孔作为所述第一混气空腔的出口和第二混气空腔的入口;冷却层,所述冷却层设置在所述第二混气空腔的所述另一腔壁上;所述匀气组件还包括:第一进气槽和第二进气槽;所述第一进气槽的一端与所述第一进气管相连通,另一端与所述第一喷嘴连通;所述第二进气槽的一端与所述第二进气管相连通,另一端与所述第二喷嘴组连通;所述第一进气槽呈十字形,包括两条交叉的直线型的气槽,交叉点与所述圆形的圆心重合;在所述第一进气槽的四个边上对应的位置分别设置有第一喷嘴;四个所述第一喷嘴距离所述圆心距离相等,并且相互之间呈90度的夹角;所述第二进气槽包括四个沿着所述圆形的半径设置的气槽,两个相邻的气槽之间形成90度的夹角;所述第一进气槽和第二进气槽在所述圆形上交错均匀分布,相邻的第一进气槽的气槽和第二进气槽的气槽之间呈45度夹角。
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