[发明专利]一种超微孔纳米SiO2的制法

摘要

本发明公开了一种超微孔纳米SiO2的制法，属于纳米材料制备领域。本发明方法包括溶胶的制备、搅拌取胶、微通道反应、喷雾干燥、分级包装制得超微孔纳米SiO2。本发明降低生产成本，节省资源，节约能源，保护环境，提高产品质量，提供了一种工艺更简单，生产成本更低廉，具有优良活性度和吸附率、分散性能好、比表面积大、内部孔隙多、用途更加广泛的超微孔纳米SiO2的制造方法。本发明项目产品最终结果远远超过国家标准及国际标准，到目前为止是世界上超微孔纳米SiO2最好的产品。

主权项

一种超微孔纳米SiO2的制法，其特征在于，包括以下步骤：a)将10000升15‑20％无机酸溶液投入15000升含40‑45％二氧化硅的硅溶胶中，搅拌至硅溶胶均匀分散于无机酸溶液中，得溶胶溶液；b)将所述溶胶溶液投入微通道反应器中，并向所述微通道反应器中通入30‑50％硅酸钠溶液和20‑40％无机酸溶液，调节上述微通道反应器加热控温80‑120℃进行微通道反应；c)待所述微通道反应完全，均匀放料并以旋转喷雾方式输送至高温喷雾干燥塔中进行分裂干燥，此时上述微通道反应产物雾化后经高温接触分裂干燥，瞬间即形成超微孔颗粒；d)将所述超微孔颗粒旋风分级，收尘，即得超微孔纳米SiO2。