[发明专利]制造多个半导体器件的方法有效
| 申请号: | 201610585269.X | 申请日: | 2016-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN106505000A | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
| 发明(设计)人: | 汉斯-马丁·里特;法兰克·伯迈斯特 | 申请(专利权)人: | 耐智亚有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 倪斌 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明描述了一种制造包括芯片级封装的多个半导体器件的方法。该方法包括提供具有主表面和背面的半导体晶片。该方法还包括在主表面上形成多个接触。该方法还包括在衬底的主表面中形成多个沟槽。该方法还包括在该背面和在该主表面中的沟槽之间在晶片中形成多个开口。该方法还包括在该晶片的背面上沉积封装剂。该封装剂中的至少一些封装剂穿过在该晶片中的开口以至少部分填充在该主表面中的沟槽。该方法还包括切单该晶片以产生多个芯片级封装,该多个芯片级封装具有包括一或多个接触的主表面和至少部分用所述封装剂覆盖的侧壁。 | ||
| 搜索关键词: | 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
一种制造包括芯片级封装的多个半导体器件的方法,其特征在于,所述方法包括:提供具有主表面和背面的半导体晶片;在所述主表面上形成多个接触;在衬底的所述主表面中形成多个沟槽;在所述背面和所述主表面中的所述沟槽之间在所述晶片中形成多个开口;在所述晶片的所述背面上沉积封装剂,其中,所述封装剂中的至少一些封装剂穿过所述晶片中的所述开口以至少部分填充在所述主表面中的所述沟槽;以及沿所述沟槽切单所述晶片以产生所述多个芯片级封装,每个芯片级封装具有包括一或多个接触的主表面和至少部分用所述封装剂覆盖的侧壁。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





