[发明专利]减少沉积不对称性的沉积设备和方法有效
| 申请号： | 201610580821.6 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106086804B | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·里奇;迈克尔·S·考克斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C16/505;C23C16/52;H01L21/67;H01L21/203;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的一个或多个实施例涉及沉积设备，所述沉积设备包括接地顶壁、处理腔室和等离子体源组件，所述等离子体源组件具有导电中空圆柱及实质连续接地遮护板，所述接地遮护板实质顺应所述中空圆柱的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 沉积 对称性 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由接地侧壁和接地底壁围成的沉积设备，所述设备包括：处理腔室，所述处理腔室由所述接地侧壁和所述接地底壁围成，所述处理腔室具有处理区域且所述处理区域限定为位于导电基座上方的空间，所述导电基座邻接所述接地底壁而设置；和实质连续接地遮护板，所述实质连续接地遮护板位于所述基座外侧，且所述实质连续接地遮护板与所述沉积设备的所述接地侧壁和所述接地底壁的其中一个或多个接触，所述实质连续接地遮护板的形状与所述导电基座实质共形，使得在所述导电基座与所述接地遮护板之间的空间实质均匀一致，其中所述实质连续接地遮护板作为同轴传输线以创造对称电场。
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