[发明专利]单晶硅柱面抛光磨具在审
| 申请号： | 201610579873.1 | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105965403A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 陈兴建;江宗宇 | 申请（专利权）人： | 成都贝瑞光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D7/18 | 分类号： | B24D7/18 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 马碧娜 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了单晶硅柱面抛光磨具，解决了现有技术中的抛光模具使用效果不理想的问题，本发明包括板状载体（1），安装在板状载体（1）上且具有抛光面的抛光体（2）；所述抛光体（2）上抛光面的长度为35～55mm。本发明具有有效使单晶硅柱面的表面粗糙度等达到设计的技术指标，甚至能超过普通磨床的加工效果的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶硅 柱面 抛光 磨具 | ||
【主权项】：
单晶硅柱面抛光磨具，其特征在于，包括板状载体（1），安装在板状载体（1）上且具有抛光面的抛光体（2）；所述抛光体（2）上抛光面的长度为35～55mm。
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