[发明专利]电容屏及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610578836.9 申请日: 2016-07-21
公开(公告)号: CN106168867A 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 李波 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G06F3/041
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 梁恺峥
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种电容屏及其制备方法,通过在透明基板上设置表面为金属导电层的ITO层,对金属导电层及ITO层进行化学蚀刻形成电容屏的显示区域及其周边走线区域,并进一步对周边走线区域进行激光蚀刻,形成触控感应线路。通过上述方式,本发明可以有效降低电容屏触控感应线路所占的空间,提高产品的屏占比,从而使产品实现窄边框的外观效果,并且还有效提升了产品的制程良率及工艺稳定性。
搜索关键词: 电容 及其 制备 方法
【主权项】:
一种电容屏的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供一透明基板;在所述透明基板上形成ITO层;在所述ITO层上形成金属导电层;对所述ITO层和所述金属导电层进行蚀刻,以形成显示区域和位于所述显示区域外的周边走线区域;对所述周边走线区域进行激光蚀刻,以形成触控感应线路。
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