[发明专利]抛光料浆组合物

摘要

本发明涉及抛光料浆组合物，且本发明的抛光料浆组合物，其包括：抛光粒子，第一抛光粒子、第二抛光粒子、第三抛光粒子中至少两个以上；及氧化剂，且随着所述抛光粒子和含有钨膜的接触面积(contact area)的增加，峰谷(peak to valley，Rpv)值减少。

主权项

1.一种钨抛光料浆组合物，其包括：(i)第一抛光粒子，所述第一抛光粒子的比表面积是70m2/g至120m2/g；(ii)第二抛光粒子，所述第二抛光粒子的比表面积是25m2/g至70m2/g；以及(iii)第三抛光粒子，所述第三抛光粒子的比表面积是10m2/g至25m2/g，并且抛光粒子的比表面积满足以下条件式1，【条件式1】20m2/g≤(TA×KA)+(TB×KB)+(TC×KC)≤100m2/g所述TA是所述第一抛光粒子的比表面积，所述TB是所述第二抛光粒子的比表面积，所述TC是所述第三抛光粒子的比表面积，所述KA是总抛光粒子中所述第一抛光粒子的含量比率，所述KB是总抛光粒子中所述第二抛光粒子的含量比率，所述KC是总抛光粒子中所述第三抛光粒子的含量比率，且满足0＜KA＜1、0＜KB＜1、0＜KC＜1，其中所述抛光粒子是硅溶胶，并且硅溶胶抛光粒子各个表面中的一部分硅离子被置换为铁离子。