[发明专利]场景深度测量方法、设备及成像装置在审
| 申请号： | 201610573245.2 | 申请日： | 2016-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN106231177A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 李其昌 | 申请（专利权）人： | 成都微晶景泰科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;G06T7/00;G01B11/22 |
| 代理公司： | 成都环泰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)51242 | 代理人： | 李斌 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种场景深度测量方法、设备及成像装置。该场景深度测量方法包括以下步骤：S1驱动一可变焦透镜单元在至少两个光焦度下对同一场景获取至少两幅图像，各幅图像的放大率相同；S2分别获取每幅图像的相对散焦度值或聚焦度值；S3通过DFD算法或DFF算法获取所述场景的相对深度分布。本发明的场景深度测量方法、设备及成像装置，不用改变同一场景图像的放大率，简化了图像处理，能较快速有效地测量场景的相对深度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 场景 深度 测量方法 设备 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种场景深度测量方法，其特征在于，所述场景深度测量方法包括以下步骤：S1驱动一可变焦透镜单元在至少两个光焦度下对同一场景获取至少两幅图像，各幅图像的放大率相同；S2分别获取每幅图像的相对散焦度值或聚焦度值；S3通过DFD算法或DFF算法获取所述场景的相对深度分布。
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