[发明专利]一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法有效
| 申请号： | 201610551553.5 | 申请日： | 2016-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN106181676B | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 高文兰;朱宝玪;徐学科;顿爱欢;吴福林;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B13/005 | 分类号： | B24B13/005;B24B13/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法：1)加工直径为2‑10mm，厚度2‑5mm的圆柱形磁铁块；2)对加工好的圆柱形磁铁块进行充磁，3)用研磨的方法将上盘基板工作面的平面度误差降低至小于0.01mm；4)将圆柱形的磁铁块按所设计的排列方式放置在上盘基板的工作面上；5)将待加工元件清洗干净，在上盘面贴一层粘结膜(双面胶)，然后垂直施加压力使得待加工元件与上盘基板间的圆柱形磁铁块完全接触。本发明方法工艺简单，易操作，保持操作环境干净无污染，按此方法上盘的元件完成加工，下盘后可保持元件面形不变，适用于批量生产高精度薄形平面元件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 光学 元件 磁性 应力 上盘 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤1.加工直径为2‑10mm、厚度为2‑5mm的圆柱形磁铁块；步骤2.对加工好的圆柱形磁铁块进行充磁；步骤3.用研磨的方法将上盘基板的工作面的平面度误差降低至小于0.01mm；步骤4.将圆柱形磁铁块均匀放置在上盘基板的工作面上；步骤5.将待加工薄形平面光学元件清洗干净，并在上盘面覆盖一层粘结膜，然后垂直施加压力使得待加工薄形平面光学元件覆盖有粘结膜的一面与上盘基板上的圆柱形磁铁块完全接触。
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