[发明专利]一种硅基复合衬底的外延方法在审
申请号: | 201610539789.7 | 申请日: | 2016-07-11 |
公开(公告)号: | CN106098847A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 王丛;刘铭;王经纬;高达;强宇 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 张然 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅基复合衬底的外延方法,具体包括以下步骤:在硅片上外延碲化镉形成硅基复合衬底;在分子束外延系统的腔室中,在碲束流的保护下,对硅基复合衬底进行高低温退火,高低温退火包括升温过程和降温过程。借助于本发明的技术方案,解决了现有技术中存在的工艺复杂,对材料尺寸要求高,工艺条件不易控制的问题,能够提高硅基复合衬底的材料质量,通过FWHM和EPD表征,本发明实施例的方法得到的硅基复合衬底与现有技术中的原生的硅基复合衬底相比,在表面粗糙度、晶体质量等方面均对有较大提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 复合 衬底 外延 方法 | ||
【主权项】:
一种硅基复合衬底的外延方法,其特征在于,包括以下步骤:在硅片上外延碲化镉形成硅基复合衬底;在分子束外延系统的腔室中,在碲束流的保护下,对所述硅基复合衬底进行高低温退火,所述高低温退火包括升温过程和降温过程。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的