[发明专利]一种可呼吸石墨烯膜在检测真空度稳定性中的应用有效
申请号: | 201610539272.8 | 申请日: | 2016-07-05 |
公开(公告)号: | CN106197839B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 高超;彭蠡 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01L21/00 | 分类号: | G01L21/00;C01B32/184;C01B32/198 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种可呼吸石墨烯膜在检测真空度稳定性中的应用,所述应用通过检测可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能来实现,可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能数据越不稳定,真空度的稳定性越低。所述可呼吸石墨烯膜由平面取向的平均尺寸大于100μm的石墨烯片通过ππ共轭作用相互搭接而成。其中包含由1‑4层石墨烯片构成的石墨烯结构。且石墨烯片的缺陷极少,其ID/TG<0.01。将可呼吸石墨烯膜在真空下快速膨胀,实现大面积发泡,电磁屏蔽性能快速提高,可以用来高效检测系统中真空度的剧烈变化。 | ||
搜索关键词: | 一种 呼吸 石墨 检测 真空 稳定性 中的 应用 | ||
【主权项】:
1.一种可呼吸石墨烯膜在检测真空度稳定性中的应用,其特征在于, 所述应用通过检测可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能来实现,所述可呼吸石墨烯膜由平面取向的平均尺寸大于100μm的石墨烯片通过ππ共轭作用相互搭接而成;其中包含由1‑4层石墨烯片构成的石墨烯结构;且石墨烯片的缺陷极少,其ID/IG<0.01;在未搭接处,石墨烯片与片之间形成空腔;将石墨烯膜与置于真空环境下,腔内气体快速膨胀,在气体膨胀作用下,腔壁的褶皱被气体撑开,逐渐变得光滑;大空腔、光滑腔壁辅助以较好的导电性能,使其膜具有极强的电磁屏蔽性能,因此可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能数据越不稳定,真空度的稳定性越低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610539272.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。