[发明专利]一种通过改变电磁场探头位置研究探头微扰动性的方法有效
申请号: | 201610537295.5 | 申请日: | 2016-07-08 |
公开(公告)号: | CN106154057B | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 阎照文;刘伟;赵文静;苏东林 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G01R29/08 | 分类号: | G01R29/08;G01R35/00 |
代理公司: | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人: | 王顺荣;唐爱华 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明一种通过改变电磁场探头位置研究探头微扰动性的方法:1:在不同的探头位置的情况下获取电磁场探头测试电磁场强度矩阵Fi;2:利用仿真软件对辐射源在不同的观察平面Pindex上产生的电磁场分布进行有探头情况下的仿真,获取有探头情况下仿真电磁场强度矩阵Fieh1;3:对比矩阵Fi和Fieh1,确定仿真模型。第四步:利用仿真软件对辐射源在不同的观察平面Pindex上产生的电磁场分布进行无探头情况下的仿真,获取无探头情况下仿真电磁场强度矩阵Fieh0;5:对比矩阵Fieh1和Fieh0。本发明得到的数据可以对工程中电磁场探头测试的数据进行修正,明显提高了电磁场探头测试结果的可信度,保证了仿真过程中建模的准确度,保证了结果数据只与电磁场探头与辐射源平面的相对位置有关。 | ||
搜索关键词: | 一种 通过 改变 电磁场 探头 位置 研究 扰动 方法 | ||
【主权项】:
1.一种通过改变电磁场探头位置研究探头微扰动性的方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:第一步:获取电磁场探头测试电磁场辐射强度矩阵Fi:确定N个观察平面,电磁场探头在不同的观察平面上测量电磁场辐射强度数据,观察平面距离辐射源平面的高度为Pindex,其中下标index表示观察平面距离辐射源平面不同的高度,index=1,2,…,N,距离辐射源平面最近的观察平面下标为1,距离辐射源平面最远的观察平面下标为N,电磁场探头在观察平面上测量数据,因此不同的观察平面对应了探头与辐射源的相对位置不同;每个观察平面上选取M个观察点,坐标为(x,y,Pindex)m,下标m表示观察点被测试的先后顺序,m=1,2,…,M,不同观察平面上的观察点有相同的横坐标和纵坐标,测量得到电磁场辐射强度按照先后顺序用矩阵Fi表示,i=1,2,…,N,其中Fi表示辐射源在第i个观察平面上探头测得的电磁场辐射强度矩阵,该矩阵有1×M个元素;第二步:获取有探头情况下仿真电磁场辐射强度矩阵Fieh1:利用仿真软件对辐射源在不同的观察平面Pindex上产生的电磁场分布进行有探头情况下的仿真,观察点的位置和选择顺序和第一步中观察点的位置和选择顺序是一致的,得到电磁场辐射强度矩阵Fieh1,其中上标eh1表示有探头情况下的仿真结果,下标i表示不同的观察平面,该矩阵有1×M个元素;第三步:对比矩阵Fi和Fieh1:通过对比Fi和Fieh1进行判断仿真建模的拟合程度,确定仿真模型;第四步:获取无探头情况下仿真电磁场辐射强度矩阵Fieh0:利用仿真软件对辐射源在不同的观察平面Pindex上产生的电磁场分布进行无探头情况下的仿真,观察点的位置和选择顺序和第一步中观察点的位置和选择顺序是一致的,得到电磁场辐射强度矩阵Fieh0,其中上标eh0表示无探头情况下的仿真结果,下标i表示不同的观察平面,该矩阵有1×M个元素;第五步:对比矩阵Fieh1和Fieh0:通过对比Fieh1和Fieh0可以得到辐射源在第i个观察平面上产生的电磁场分布由于电磁场探头的引入而产生的微扰,两组电磁场辐射强度对比的差值是对测试数据进行修正的重要依据。
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