[发明专利]CMP后清洗液组合物有效
| 申请号： | 201610533445.5 | 申请日： | 2016-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN106191887B | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 李锡浩;宋定桓;全成植;赵诚一;韩挪;金炳卓;林娥铉 | 申请（专利权）人： | LTCAM株式会社 |
| 主分类号： | C23G1/20 | 分类号： | C23G1/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 钟晶,金鲜英 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种CMP后清洗液组合物，其包含2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇(2‑Amino‑2‑methyl‑1‑propanol)0.01～10wt％、季铵氢氧化物0.1～10wt％、螯合剂0.001～3wt％、哌嗪(Piperazine)0.001～5wt％以及使全部组合物总重量为100wt％的余量的超纯水，根据本发明的CMP后清洗液组合物的pH为10～14，能够有效去除残留物和污染物，与有机或金属性蚀刻残留物形成配位键，从而防止从基板再沉积，并具有抑制铜腐蚀的效果，能够制造优异的半导体。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 清洗 组合 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨后清洗液组合物，其特征在于，包含：2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇0.01～10wt％、季铵氢氧化物0.1～10wt％、螯合剂0.001～3wt％、哌嗪0.001～5wt％以及使全部组合物总重量为100wt％的余量的超纯水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LTCAM株式会社，未经LTCAM株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610533445.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
