[发明专利]基板成膜检查装置在审

专利信息
申请号: 201610515785.5 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN106226312A 公开(公告)日: 2016-12-14
发明(设计)人: 李淳钟;禹奉周;朴炳澯 申请(专利权)人: 塞米西斯科株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01B11/02;H01L21/66
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 代理人: 孙昌浩;李盛泉
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开一种基板成膜检查装置,包括基板成膜检查装置,该基板成膜检查装置包括:检查台;照明模块;相机,对成膜以单层或多层得到涂布的基板的表面进行逐行扫描方式的拍摄,并对基板的横向部边缘和纵向部边缘进行逐行扫描方式的拍摄;检查单元,由借助于相机拍摄到的图像信息分别计算出在基板的表面涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离,且检查所计算出的距离是否对应于歪斜状态,其中,在基板的表面被涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘或纵向部边缘之间的距离以如下方式得到计算:对从相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的成膜与横向部边缘或纵向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度。
搜索关键词: 基板成膜 检查 装置
【主权项】:
一种基板成膜检查装置,其特征在于,包括:基板成膜检查装置,在基板的表面上以与横向部边缘及纵向部边缘维持预定距离的方式涂布包含有聚酰亚胺膜的单层或多层的成膜时,计算出涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘之间的距离、以及涂布为单层或多层的所述成膜与所述纵向部边缘之间的距离,从而检查出在所述基板的表面上被涂布为单层或多层的所述成膜是否以歪斜状态得到涂布,其中,所述基板成膜检查装置包括:检查台,用于使所述成膜以单层或多层得到涂布的所述基板经过;照明模块,在检查台中沿着与所述基板的行进方向正交的宽度方向布置,用于向经过所述检查台的所述基板的横向部边缘和纵向部边缘照射光源;逐行扫描式相机,在所述检查台中沿着与所述基板的行进方向正交的宽度方向布置,不仅对成膜以单层或多层得到涂布的所述基板的表面进行逐行扫描方式的拍摄,而且还对所述基板的横向部边缘和纵向部边缘进行逐行扫描方式的拍摄;以及检查单元,用于控制所述照明模块及所述逐行扫描式相机的操作,并由借助于所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息分别计算出在所述基板的表面涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离,且检查所计算出的距离是否对应于歪斜状态,其中,在所述基板的表面被涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的横向部边缘之间的距离以如下方式得到计算:对从所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的所述成膜与所述横向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度,在所述基板的表面被涂布为单层或多层的所述成膜与所述基板的纵向部边缘之间的距离以如下方式得到计算:对从所述逐行扫描式相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的所述成膜与所述纵向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度。
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