[发明专利]监测掩膜板形成图案位置的方法以及基板有效

专利信息
申请号: 201610515115.3 申请日: 2016-07-01
公开(公告)号: CN106129270B 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 蒋谦;金江江;黄静;武志勇;顾宇;黄金昌 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L21/67
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 李庆波
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种监测掩膜板形成图案位置的方法及对应的基板。方法包括:提供一掩膜板及一基板,其中掩膜板上设置有多个检测开口,基板上对应设置有多个图案测试区,图案测试区包括多个标尺图案;应用掩膜板在基板上沉积与检测开口对应的检测图案;根据检测图案的边缘与各标尺图案相对位置关系确定检测图案在基板上的实际位置。通过以上方式,本发明能够方便、快速完成OLED面板的检查,进而判断掩膜板是否异常,能满足快速应对随机抽取的多片基板的监测需求。
搜索关键词: 掩膜板 基板 图案 检测 标尺图案 图案位置 测试区 开口 相对位置关系 多片基板 监测需求 实际位置 随机抽取 监测 沉积 应用 检查
【主权项】:
一种监测掩膜板形成图案位置的方法,其特征在于,所述方法包括:提供一掩膜板及一基板,其中所述掩膜板上设置有多个检测开口,所述基板上对应设置有多个图案测试区,所述图案测试区包括多个标尺图案;应用所述掩膜板在所述基板上沉积与所述检测开口对应的检测图案;根据所述检测图案的边缘与各所述标尺图案相对位置关系确定所述检测图案在所述基板上的实际位置;其中,所述检测开口设置在所述掩膜板有效开口所形成的有效区域外围,或者设置在所述掩膜板有效区域内,且穿插在所述有效开口之间;所述检测图案的边缘的设计位置位于所述标尺图案的中心,所述标尺图案分布在所述检测图案的边缘的设计位置的两侧,呈左右或上下对称;所述掩膜板上进一步设置有多个有效开口。
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