[发明专利]化学机械抛光垫复合抛光层配制品有效

专利信息
申请号: 201610461665.1 申请日: 2016-06-23
公开(公告)号: CN107627202B 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: B·钱;J·考兹休克;T·布鲁加罗拉斯布鲁福;D·卢戈;G·C·雅各布;J·B·米勒;T·Q·陈;M·R·斯塔克;J·J·亨德伦 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
主分类号: B24B37/24 分类号: B24B37/24;B24B37/26;B24B37/04;B24B37/22
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;胡嘉倩
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供一种化学机械抛光垫,其含有:具有抛光表面的抛光层;其中所述抛光层包含第一连续非短效聚合物相和第二非短效聚合物相;其中所述第一连续非短效聚合物相具有多个周期性凹座;其中所述多个周期性凹座由所述第二非短效聚合物相所占据;其中所述第一连续非短效聚合物相的开孔孔隙率≤6体积%;其中所述第二非短效聚合物相的开孔孔隙率≥10体积%;以及其中所述抛光表面适于抛光衬底。
搜索关键词: 化学 机械抛光 复合 抛光 配制
【主权项】:
1.一种化学机械抛光垫,其包含:具有抛光表面、基底表面和垂直于所述抛光表面测量的从所述基底表面到所述抛光表面的平均厚度TP‑平均的抛光层;其中所述抛光层包含第一连续非短效聚合物相和第二非短效聚合物相;其中所述第一连续非短效聚合物相具有多个周期性凹座,所述周期性凹座具有垂直于所述抛光表面从所述抛光表面朝向所述基底表面测量的距所述抛光表面的平均凹座深度D平均;其中所述平均凹座深度D平均小于所述平均厚度TP‑平均;其中所述多个周期性凹座由所述第二非短效聚合物相占据;其中所述第一连续非短效聚合物相是具有8至12重量%未反应的NCO基团的第一连续相异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物与第一连续相固化剂的反应产物;其中所述第二非短效聚合物相选自第二连续非短效聚合物相和第二不连续非短效聚合物相;其中所述第二非短效聚合物相是通过组合聚侧(P)液体组分和异侧(I)液体组分来形成;其中所述聚侧(P)液体组分包含(P)侧多元醇、(P)侧多元胺和(P)侧醇胺中的至少一个;其中所述异侧(I)液体组分包含至少一个(I)侧多官能异氰酸酯;其中所述第一连续非短效聚合物相的开孔孔隙率≤6体积%并且含有聚合物微气球,以及所述聚合物微气球提供1体积%至58%孔隙率;其中所述第二非短效聚合物相的开孔孔隙率≥10体积%;以及其中所述抛光表面适于抛光衬底。
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