[发明专利]化学机械抛光垫及其制备方法在审
| 申请号： | 201610461559.3 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107695868A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | B·钱;J·考兹休克;T·布鲁加罗拉斯布鲁福;D·M·韦内齐亚莱;Y·童;D·卢戈;J·B·米勒;G·C·雅各布;M·W·德格鲁特;T·Q·陈;M·R·斯塔克;A·旺克;F·叶 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B24B37/24;B24B37/26;B24D18/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 胡嘉倩,陈哲锋 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种化学机械抛光垫，其包含具有抛光表面的化学机械抛光层；其中所述化学机械抛光层通过将以下各项组合而形成(a)聚侧(P)液体组分，包含胺‑二氧化碳加合物；以及多元醇、多元胺和醇胺中的至少一种；以及(b)异侧(I)液体组分，包含多官能异氰酸酯；其中所述化学机械抛光层的孔隙度≥10vol％；其中所述化学机械抛光层的肖氏D硬度<40；并且其中所述抛光表面适合于抛光衬底。还提供了其制备以及使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光垫，其包含：具有抛光表面、底表面和平均抛光层厚度TP‑平均的化学机械抛光层，所述平均抛光层厚度从所述底表面至所述抛光表面垂直于所述抛光表面测量；其中所述化学机械抛光层通过将聚侧(P)液体组分和异侧(I)液体组分组合而形成；其中所述聚侧(P)液体组分包含胺‑二氧化碳加合物；以及(P)侧多元醇、(P)侧多元胺和(P)侧醇胺中的至少一种；其中所述异侧(I)液体组分包含至少一种(I)侧多官能异氰酸酯；其中所述化学机械抛光层的孔隙度≥10vol％；其中所述化学机械抛光层的肖氏D硬度<40；并且其中所述抛光表面适合于抛光衬底。
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