[发明专利]彩膜基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201610458769.7 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN105867010B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 杨超群;黄长治 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法，该彩膜基板包括：在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交叠；在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料；将所述混合材料涂布在所述色阻层上；对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应；对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。本发明能防止ESD漏电，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交叠；在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料；并将所述混合材料涂布在所述色阻层上；对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应；对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。
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