[发明专利]一种基板的制作方法及基板、显示装置在审
| 申请号： | 201610440657.9 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN105974620A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 史高飞;许徐飞;刘承娜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G03F7/20;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板的制作方法及基板、显示装置，用以解决现有技术中存在的在形成信号线时由于刻蚀工艺对信号线的机械损伤而导致信号线短路或断路的问题。本发明实施例中，在制作所需金属图案时，可不采用刻蚀的方式形成所需的金属图案，而是先沉积光刻胶层，再对该光刻胶层进行图案化，形成光刻胶图案，并利用光刻胶图案进行遮挡，沉积金属膜层，最后将光刻胶图案剥离，保留所需的金属图案。从而，简化了制作工艺，避免了刻蚀工艺所造成的机械损伤，防止由于刻蚀工艺而发生信号线短路或断路的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基底；在所述基底的一表面形成光刻胶层；利用掩膜版对所述光刻胶层进行曝光、显影，形成光刻胶图案；在所述基底形成有光刻胶图案的一表面沉积金属膜层；将所述光刻胶图案剥离，形成所需的金属图案。
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